A globális technológiai versenyben egyre élesebben rajzolódik ki Kína ambíciója, hogy a félvezetőiparban is teljes önellátásra tegyen szert. Ennek a monumentális törekvésnek az egyik legfontosabb mérföldkövét a közelmúltban a Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), az ország legnagyobb szerződéses chipgyártója érte el. A vállalat ugyanis megkezdte egy áttörő, hazai fejlesztésű DUV (Deep Ultraviolet) immerziós litográfiai berendezés tesztelését, melyet a belföldi technológia és alkatrészek dominálnak.
Ez a lépés nem csupán egy technológiai bravúr, hanem egy stratégiai győzelem ígérete is. Képzeljük el, mint egy régóta dédelgetett álom megvalósulását, ahol a kritikus gyártóeszközök már nem kizárólag külföldi, például az ASML holland óriástól származnak. Bár a kezdeti fázisban még szükség van exportált komponensekre, a hosszú távú cél kristálytiszta: minden egyes alkatrészt hazai alternatívával kiváltani. Ez a függetlenségi törekvés kulcsfontosságú a modern chipgyártásban, és alapjaiban változtathatja meg Kína helyzetét a globális tech-színpadon.
A szóban forgó, „Mount Everest” névre keresztelt DUV litográfiai rendszer a Shanghai Yuliangsheng Technology műhelyéből került ki. Érdemes megjegyezni, hogy ez a cég szoros kapcsolatban áll a Huawei leányvállalatával, a SiCarrier-rel, ami tovább erősíti a kínai technológiai ökoszisztéma összefonódását. A berendezést eredetileg 28 nanométeres (nm) csíkszélességű chipek előállítására tervezték. Azonban a Multi-Patterning technológia alkalmazásával, amely több maszkot használva finomítja a chip mintázatát, elméleti síkon akár a 7 nm-es vagy 5 nm-es csíkszélességre is alkalmassá válhat, amennyiben a precizitás és a vezérlés eléri a kívánt szintet. Ez óriási potenciált rejt magában, hiszen ez a technológiai ugrás teszi lehetővé a ma ismert okostelefonok, mesterséges intelligencia chipek és más fejlett eszközök gyártását.
A Financial Times információi szerint az új kínai immerziós litográfiai eszköz képességei valahol az ASML 2008-ban bemutatott TwinScan NXT:1950i típusú gyártóberendezésének szintjén helyezkedhetnek el. Ez a holland masina anno a 32 nm-es, de akár a 22 nm-es gyártástechnológiákhoz is kiválóan megfelelt. Azonban a 7 nm-es és 5 nm-es gyártáshoz az ASML már több generációval frissebb modelleket, például az NXT:2000i-t fejleszti, jelezve, milyen hosszú még az út a globális élvonalhoz.
Fontos megérteni, hogy a „tesztelés megkezdése” még korántsem jelenti a sorozatgyártás elindulását. Valószínűbb, hogy az SMIC jelenleg az első „tesztostyákat” készíti, gondosan finomítva a folyamatokat, optimalizálva a beállításokat. Ez egy hosszú és fáradságos munka, melynek során éveket vehet igénybe a rendszer tökéletesítése. Az eredeti ütemterv szerint a saját fejlesztésű DUV eszközök legkorábban 2027-től kezdhetik meg a tényleges termelést, miután minden szükséges minősítési folyamaton átestek. Addig is a már meglévő, jellemzően ASML-től származó berendezésekre támaszkodnak.
A 7 nm-es és 5 nm-es gyártási szintek elérése még távolabbi cél. Ezek a finomabb csíkszélességek rendkívüli precizitást és rendkívül pontos vezérlést igényelnek, ami további, kiterjedt fejlesztőmunkát és optimalizálást tesz szükségessé. Ha a 28 nm-es technológiához készült eszköz valóban 2027-ben termelésbe áll, akkor a következő lépcsők valószínűleg a 16 nm-es, majd a 7 nm-es technológiák lehetnek. Ez azonban a Mount Everest szkenner alapos modernizálását igényli, ami további éveket emészt fel. Így a 10 nm alatti csíkszélességek széles körű alkalmazására valószínűleg csak valamikor a 2030-as évek folyamán kerülhet sor, feltéve, hogy minden a tervek szerint halad.
A Shanghai Yuliangsheng, a Mount Everest litográfiai rendszer fejlesztője, sajnos már az amerikai exportkorlátozások célkeresztjébe került, 2024-ben felkerült az Entitás Listára. Ez a tény csak tovább hangsúlyozza a hazai fejlesztések sürgősségét és stratégiai jelentőségét, hiszen a Kína számára létfontosságú technológiai önellátás felé vezető út tele van kihívásokkal és akadályokkal. Az „Everest” név tehát nem csupán a technológiai csúcsra utal, hanem arra a hatalmas, szinte már emberfeletti erőfeszítésre is, amelyet Kína tesz a félvezetőipari függetlenség elérése érdekében.
